Chemischer Name |
Chemische Formel |
CAS-Nr. |
Molekulargewicht |
Siedepunkt / Bereich |
Gasdichte kg / m³ @ 20 ℃ |
Gefahrenklasse |
UN-Nr. |
Wasserstoff |
H2 |
1333-74-0 |
1,00 |
-252,8 ℃ |
0,083 |
2.1 |
1954 |
Phosphin |
PH3 |
7803-51-2 |
34 |
-82,72 ℃ |
1,405 |
Anwendung
Phosphoran ist eine wichtige n-dotierte Quelle bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und wird auch bei der chemischen Gasphasenabscheidung von Polysilicium, beim epitaktischen GaP-Material, beim Ionenimplantationsverfahren, beim MOCVD-Verfahren, bei der Herstellung von Passivierungsfilmen aus Phosphorsiliciumglas (PSG) und bei anderen Verfahren verwendet.
Prozess
Mischen
Notfallmaßnahmen
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